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產品介紹 | 生產治具設計及製作 | Photo Mask | Hard Coating Treatment |

生產治具設計與製作

Photo Mask：(玻璃光罩、底片)

伴隨電子機械的高效能和輕薄短小化的微細加工技術的生命線。

TOPIC 致力研究發展光罩應用技術，具備優良的技術合先進裝備，秉持著專業技術及客戶的信賴，藉由生產力和良率的提升提供『高精度』、『高品質』、『高精密』的Photo Mask(玻璃光罩、底片)。

Emulsion Mask：

‧用途：

PDP，高精密度Lead frame、高精度電路板，精密電子產品等(L/S20um以上)。

‧特長：

1.材料不會因濕度而縮漲，熱膨脹率低，所以有很好的安定性解析度高。

2.TOP'S有良好的耐久性，耐藥品性及耐溶劑性，硬度達4H(鉛筆硬度)。

3. TOP'S具有帶電防止效果，防止光的折射、繞射，提高PATTEN的解析度。

Chrome Mask：

‧用途：

PDP, C/F LCD MASK, FC.Package (TAB,CSP,BGA,MCM,COG)，高精度電子部品等 (L/S 5um 之間)。

‧特長：

Cr膜是金屬材質所以能抗刮傷耐磨耗，解析度及高，和Emulsion比較時，具有十倍以上耐久性。
玻璃材質─有蘇打玻璃(Soda)及石英玻璃(Quarlz)。